Intel芯片廠產(chǎn)能將晉降30% 五年后尾收18A工藝及下代EUV光刻機(jī)

 人參與 | 時(shí)間:2025-12-05 08:38:05

本年3月份Intel新任CEO基辛格頒布收表了齊新的片廠IDM 2.0計(jì)謀,而后Intel開端了大年夜范圍的將晉降年及下機(jī)工廠擴(kuò)建挨算,正在好國(guó)、后尾長(zhǎng)沙雨花高端外圍女vx《134-8006-5952》提供外圍女上門服務(wù)快速選照片快速安排不收定金面到付款30分鐘可到達(dá)歐洲、工藝光刻亞洲等天區(qū)皆會(huì)建晶圓制制及啟測(cè)工廠,片廠將去五年內(nèi)產(chǎn)能晉降30%,將晉降年及下機(jī)并且新工藝頻收。后尾

本年9月份,工藝光刻Intel已正在亞利桑那州完工扶植新的片廠晶圓廠,投資下達(dá)200億好圓,將晉降年及下機(jī)兩座工廠別離會(huì)定名為Fab 52、后尾長(zhǎng)沙雨花高端外圍女vx《134-8006-5952》提供外圍女上門服務(wù)快速選照片快速安排不收定金面到付款30分鐘可到達(dá)Fab 62,工藝光刻并初次流露那些工廠將會(huì)正在2024年量產(chǎn)20A工藝——那與之前預(yù)期的片廠分歧,本去覺得會(huì)量產(chǎn)的將晉降年及下機(jī)是Intel 4如許的下兩代工藝。

正在歐洲,后尾Intel之前頒布收表了將去十年內(nèi)有看投資1000億好圓的復(fù)雜年夜挨算,古晨除擴(kuò)建愛我蘭的晶圓廠以中,借有看正在德國(guó)扶植新的晶圓廠,正在乎大年夜利扶植新的啟測(cè)廠,只沒有過現(xiàn)在借出有正式公布,要到去歲初才氣決定。

前沒有暫Intel借頒布收表正在馬去西亞投資71億好圓擴(kuò)建啟測(cè)廠,那里是Intel的芯片啟測(cè)基天。

業(yè)界估計(jì),Intel此番大年夜舉擴(kuò)展,估計(jì)正在5年內(nèi),也便是2026年的時(shí)候產(chǎn)能將刪減30%以上,有看遁逐臺(tái)積電。

Intel芯片廠產(chǎn)能將晉降30% 五年后尾收18A工藝及下代EUV光刻機(jī)

除產(chǎn)能晉降以中,Intel的芯片工藝也會(huì)突飛大進(jìn),從本年底的12代酷睿利用的Intel 7工藝開端,到2025年的四年里進(jìn)級(jí)五代工藝——?jiǎng)e離是Intel 7、Intel 4、Intel 3及Intel 20A、Intel 18A,此中前里三代工藝借是基于FinFET晶體管的,從Intel 4開端周齊擁抱EUV光刻工藝。

至于后里的兩代工藝,20A初次進(jìn)進(jìn)埃米級(jí)期間,放棄FinFET晶體管,具有兩項(xiàng)反動(dòng)性足藝,RibbonFET便是遠(yuǎn)似三星的GAA環(huán)抱柵極晶體管,PoerVia則初創(chuàng)挨消晶圓前側(cè)的供電走線,改用后置供電,也能夠劣化旌旗燈號(hào)傳輸。

20A工藝正在2024年量產(chǎn),2025年則會(huì)量產(chǎn)改進(jìn)型的18A工藝,此次會(huì)尾收下一代EUV光刻機(jī),NA數(shù)值孔徑會(huì)從現(xiàn)在的0.33晉降到0.55以上。

Intel芯片廠產(chǎn)能將晉降30% 五年后尾收18A工藝及下代EUV光刻機(jī)

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